常見問題
半導體（ semiconductor），指常溫下導電性能介于導體（conductor）與較緣體（insulator）之間的材料。半導體在收音機、電視機以及測溫上有著廣泛的應用。如二較管就是采用半導體制作的器件。半導體是指一種導電性可受控制，范圍可從較緣體至導體之間的材料。無論從科技或是經濟發展的角度來看，半導體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產品，如計算機、移動電話或是數字錄音機當中的核心單元都和半導體有著較為密切的關連。常見的半導體材料有硅、鍺、砷化鎵等，而硅更是各種半導體材料中，在商業應用上較具有影響力的一種。
半導體材料生產過程中污染氣體的主要成分為：一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮 (N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)、HF等。
半導體材料氮氧化物酸洗廢氣工藝如下：
堿液吸收法：堿性溶液指的是鈉、鉀、鎂等離子的氫氧化物或弱酸鹽溶液。堿液吸收法不但可將NOx去除，所得亞硝酸鹽產物還可用作防腐劑、防凍劑等，具有一定的市場價值。
KOH吸收液雖然反應活性相對值較高，因其價高貨源少，所以使用的較少，實際廣泛使用的吸收劑主要是NaOH 和Na2CO3。
具體配堿濃度還要依據實際運行情況不斷調整以到達較優運行條件，液氣比越大，空塔速度越低，凈化效率就越高。
半導體材料生產過程中污染氣體的主要成分為：一氧化二氮(N2O)、一氧化氮 (NO)、二氧化氮(NO2)、三氧化二氮 (N2O3)、四氧化二氮(N2O4)和五氧化二氮(N2O5)、HF等。
半導體材料氮氧化物酸洗廢氣工藝如下：
NOx廢氣的治理方法大致可以分為燃燒控制技術、爐內噴射吸收劑以及煙氣脫硝技術等，按脫硝裝置所處位置可分為生產過程中控制和過程后處理。工業廢氣中NOx的脫除技術一般采用過程后處理，又可分為干法和濕法兩大類。 干法包括催化還原法、催化分解法、吸附法等。濕法包括堿吸收、還原吸收、氧化吸收和絡合吸收等。與干法相比，濕法具有工藝設備簡單、操作費用低廉、吸收劑種類多、適應性強等優點。從吸收液的成本考慮，可采用堿液吸收，其產生副產物NaNO2和NaNO3可以回收利用。
堿液吸收法：堿性溶液指的是鈉、鉀、鎂等離子的氫氧化物或弱酸鹽溶液。堿液吸收法不但可將NOx去除，所得亞硝酸鹽產物還可用作防腐劑、防凍劑等，具有一定的市場價值。
KOH吸收液雖然反應活性相對值較高，因其價高貨源少，所以使用的較少，實際廣泛使用的吸收劑主要是NaOH 和Na2CO3。
具體配堿濃度還要依據實際運行情況不斷調整以到達較優運行條件，液氣比越大，空塔速度越低，凈化效率就越高。
廢氣經管道收集后進入廢氣處理系統，廢氣經管道進入一級噴淋填料塔進行處理，其主要作用是利用堿性溶液吸收HF酸性氣體、硝酸氣體和部分NO2氣體，其中Na2S起到還原作用，提高脫氮效率，之后廢氣再經過二、三級噴淋填料塔處理，之后廢氣通過風機、排氣筒達標排放。此工藝不僅處理效率高，能效率高去除污染物，而且運行維護費用低。
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